磁控溅射靶维修方法,磁控溅射靶维修方法***

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于磁控溅射靶维修方法的问题，于是小编就整理了4个相关介绍磁控溅射靶维修方法的解答，让我们一起看看吧。

1. 请问PVD磁控溅射真空镀膜需要注意哪些事项呢？
2. 磁控溅射看靶功率好还是靶电流密度？
3. 磁控溅射镀膜机导致不均匀因素哪些？
4. 二氧化硅磁控溅射镀膜原理？

请问PVD磁控溅射真空镀膜需要注意哪些事项呢？

PVD的全称是物理气象沉积,即英文（Phisical Vapor Deposition)的简写形式。目前PVD主要有蒸发镀膜，磁控溅射镀膜，多弧离子镀膜，化学气相沉积等形式。PVD总的来说属于绿色环保产业，和其他行业相比，对人体有害很小，但不是没有。当然，也完全可以有效减少，甚至完全消除。

1）噪音污染：如特别是一些大的镀膜设备，机械真空泵噪音很大，可以把泵隔离在墙外；

2）光污染：离子镀膜过程中，气体电离发出强光，不宜透过观察窗久看；

3）金属污染：镀膜材料有些（如铬、铟、铝）是对人体有害的，特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染；

4）辐射：有些镀膜要用到射频电源，如功率大，需做好屏蔽处理。另外，欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射。

磁控溅射看靶功率好还是靶电流密度？

电压电流直接相乘。

另外，一般直流磁控溅射的电源散热量比较大，真正的使用效率只有40%，算是比较好的。国内最好的还是要属珠海的。

用电总功率是指的接入电源之前的电压乘电流，外接功率表就好。

实际功率为靶材的电压乘电流。并非显示数据。需要实际测量。

磁控溅射镀膜机导致不均匀因素哪些？

原理上讲，两点：气场和磁场

磁控溅射在0.4Pa的气压情况下离子撞击靶材，溅射出粒子沉积到基材上，整体靶材的电压几乎一致，不影响溅射速率。

0.4Pa的气场情况是溅射速率最高的情况，气场变化，压强变大和变小都会影响溅射速率。

磁场大，束缚的自由电子增多，溅射速率增大，磁场小，束缚的自由电子就少，溅射速率降低。

稳定住气场和磁场，溅射速率也将随之稳定。

在实际情况下，气场稳定，

需要设计布气系统，最好将布气系统分级布置，保障镀膜机腔体内不同位置的进气量相同，同时，布气系统、靶材、基材等要远离镀膜机的抽气口。

需要稳定磁场，用高斯计测量靶材表面磁场强度，由于磁场线本身是闭合曲线，靶材磁场回路两端磁场强度自然比中间位置强，可以选择用弱磁铁，同时，基材要避开无法调整的磁场变化较大的部分。

二氧化硅磁控溅射镀膜原理？

磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。

氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。

二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动。

到此，以上就是小编对于磁控溅射靶维修方法的问题就介绍到这了，希望介绍关于磁控溅射靶维修方法的4点解答对大家有用。